EstoObjetivo plano de molibdenoSe procesa con placas de alta calidad de nuestra empresa. Tiene las características de alta densidad, sin grietas y burbujas en el interior, superficie brillante, color uniforme y tamaño preciso.
El pequeño objetivo giratorio de molibdeno se procesa con barras de alta calidad, que tienen las características de tamaño preciso, superficie lisa y alta pureza.
El objetivo giratorio de molibdeno de tamaño regular se produce mediante un proceso de presión isostática térmica, que tiene una alta densidad (densidad de hasta 10,15 G / cm3), finura y buena moldura.
Densidad convencional: 10 g / CM 3 a 10,15 G / CM 3;
Densidad de proceso especial: superior a 10,15 G / CM cúbico.
Los requisitos para los objetivos de pulverización son más altos que en la industria tradicional de materiales. Los requisitos generales incluyen: tamaño, planitud, pureza, contenido de impurezas, densidad, n / o / C / s, tamaño de grano y control de defectos; Los requisitos más altos o especiales incluyen: rugosidad de la superficie, valores de resistencia, uniformidad del tamaño del grano, uniformidad de la composición y estructura, contenido y tamaño de cuerpos extraños (óxidos), conductividad magnética, ultraalta densidad y granos ultrafinos. el recubrimiento por pulverización de magnetón es un nuevo método de recubrimiento físico en fase de vapor. Utiliza un sistema de cañón de electrones para emitir y enfocar electrones en el material a recubrir, haciendo que los átomos salpicados sigan el principio de conversión de impulso y vuelen fuera del material con mayor energía cinética. las películas se depositan en el sustrato. Este material de galvanoplastia se llama objetivo de pulverización. Los objetivos de pulverización incluyen metales, aleaciones, compuestos cerámicos, etc.
El recubrimiento por pulverización de magnetrón es un nuevo método de recubrimiento físico en fase de vapor. En comparación con el método de recubrimiento por evaporación, tiene ventajas obvias en muchos aspectos. Como tecnología relativamente madura, el chorro de magnetrón se ha aplicado en muchos campos.
La tecnología de pulverización, la pulverización es una de las principales tecnologías para la preparación de materiales de película delgada. Utiliza iones producidos por fuentes de iones para acelerar y reunirse en el vacío, formando haces de iones de alta velocidad y bombardeando superficies sólidas. Se producen iones y átomos en la superficie del sólido. El intercambio de energía cinética hace que los átomos en la superficie del sólido salgan del sólido y se depositen en la superficie del sustrato. Los sólidos bombardeados son las materias primas para la preparación de películas depositadas por pulverización, conocidas como dianas de pulverización. Varios tipos de materiales de película fina de pulverización se han utilizado ampliamente en circuitos integrados semiconductores, fotovoltaica solar, medios de grabación, pantallas planas y recubrimientos superficiales de piezas de trabajo.
Los objetivos de pulverización se utilizan principalmente en la industria electrónica y de la información, como circuitos integrados, almacenamiento de información, pantallas lcd, memorias láser, equipos de control electrónico, etc.; También se pueden utilizar en el campo del recubrimiento de vidrio; También se puede utilizar en materiales resistentes al desgaste, resistencia a la corrosión a alta temperatura, productos de decoración y otras industrias.
Los objetivos de molibdeno son ampliamente utilizados en muchos campos. Estos son algunos de los usos comunes de los objetivos de molibdeno:
1. deposición de película delgada: los objetivos de molibdeno se pueden utilizar para preparar películas de molibdeno a través de la deposición física de vapor (pvd) o el chorro de magnetrón. estas películas suelen tener excelentes propiedades eléctricas, alto punto de fusión y resistencia a la corrosión, por lo que a menudo se utilizan para preparar capas conductoras, capas de bloqueo, cables de conexión metálicos y otras aplicaciones. Las películas de molibdeno son materiales comunes en la fabricación de circuitos integrados y células solares de película delgada.
2. equipos de vacío y recubrimientos de barrera térmica: debido al Alto punto de fusión, baja tasa de evaporación y buena estabilidad térmica del molibdeno, el objetivo de molibdeno se puede utilizar para preparar componentes en equipos de vacío, como válvulas de aleación de tungsteno y molibdeno, calentadores de tungsteno y molibdeno, etc.
Además, el molibdeno también se puede utilizar para preparar recubrimientos de barrera térmica en aplicaciones de alta temperatura para mejorar la resistencia al calor del material y proteger el sustrato.
3. recubrimiento óptico:Objetivo de molibdenoTambién se utiliza en el campo de la óptica. Al depositar películas de molibdeno, se pueden preparar recubrimientos con propiedades ópticas específicas, como espejos, filtros y películas de transmisión. Las películas de molibdeno tienen buenas propiedades de reflexión en el rango espectral infrarrojo, por lo que generalmente se utilizan en sistemas ópticos y láser infrarrojos.
4. dispositivos electrónicos: los objetivos de molibdeno también tienen aplicaciones importantes en la fabricación de dispositivos electrónicos. Por ejemplo, en la tecnología de visualización, la película de molibdeno puede usarse como placa trasera de una pantalla con buena conductividad eléctrica y estabilidad térmica.
Además, el molibdeno se utiliza como material de contacto, electrodo y alambre en equipos electrónicos.
5. investigación de materiales y aplicaciones de laboratorio: los objetivos de molibdeno también se utilizan ampliamente en la investigación científica y aplicaciones de laboratorio. Se puede utilizar como material objetivo para estudiar el crecimiento de la película, la modificación de la superficie y las propiedades del material.
Además, el objetivo de molibdeno también se puede utilizar para la preparación de muestras de microscopía electrónica (sem), estándares de espectrómetros de fluorescencia de rayos X (xrf) y otras aplicaciones.
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